SETO 1.67 LENS POTOCHROMIC SHMC

1) Cos'è il rivestimento di spin?

Il rivestimento di spin è una procedura utilizzata per depositare film sottili uniformi su substrati piatti. Di solito viene applicata una piccola quantità di materiale di rivestimento al centro del substrato, che gira a bassa velocità o non gira affatto. Il substrato viene quindi ruotato a velocità fino a 10.000 giri / min per diffondere il materiale di rivestimento per forza centrifuga. Una macchina utilizzata per il rivestimento di spin è chiamata rivestimento di spin o semplicemente spinner.
La rotazione continua mentre il fluido gira dai bordi del substrato, fino a quando non viene raggiunto lo spessore desiderato del film. Il solvente applicato è generalmente volatile ed evapora contemporaneamente. Maggiore è la velocità angolare della rotazione, più sottile è il film. Lo spessore del film dipende anche dalla viscosità e dalla concentrazione della soluzione e dal solvente. Emslie et al. È stata estesa un'analisi teorica pionieristica del rivestimento di spin ed è stata estesa da molti autori successivi (tra cui Wilson et al., Che hanno studiato il tasso di diffusione nel rivestimento di spin; e Danglad-Flores et al., Descrizione universale per prevedere lo spessore del film depositato).
Il rivestimento di spin è ampiamente utilizzato nella microfabbricazione degli strati di ossido funzionale su vetro o substrati a cristallo singolo usando precursori sol-gel, dove può essere utilizzato per creare pellicole sottili uniformi con spessori di nanoscala. [6] È usato intensamente nella fotolitografia, per depositare strati di fotoresist di circa 1 micrometro di spessore. Il fotoresist viene in genere fatto girare da 20 a 80 rivoluzioni al secondo per 30-60 secondi. È anche ampiamente utilizzato per la fabbricazione di strutture fotoniche planare di polimeri.
Un vantaggio per girare i film sottili del rivestimento è l'uniformità dello spessore del film. A causa dell'auto-livello, gli spessori non variano più dell'1%. Tuttavia, i pellicole più spesse di polimeri e fotoresisti di spin possono provocare perle di bordo relativamente grandi la cui planarizzazione ha limiti fisici.